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헬리콘 플라즈마 CVD 방법에 의한 저유전율 SiOF 박막 형성과 그 특성
Document Type
Thesis
Title
헬리콘 플라즈마 CVD 방법에 의한 저유전율 SiOF 박막 형성과 그 특성 / 吳尹晶.
개인저자
Publication
제주 : 濟州大學校 , 1996.
Physical Description
43p. : 삽도 ; 26cm.
Dissertation Note
학위논문(석사)-- 濟州大學校 大學院 : 物理學科 , 1996年12月.
Bibliography Note
참고문헌 : p.41-43
Summary Note
Abstract : p.1
Call Number
427.62 오67ㅎ
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