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SiH₄/NH₃/N₂와 SiH₄/NH₃/Ar의 혼합비율이 PECVD 질화막의 특성에 미치는 영향
Document Type
Thesis
Title
SiH₄/NH₃/N₂와 SiH₄/NH₃/Ar의 혼합비율이 PECVD 질화막의 특성에 미치는 영향 / 金春槿
개인저자
Publication
서울 : 漢陽大學校 , 1988.
Physical Description
ii,43장 : 삽도 ; 26cm.
Dissertation Note
학위논문(석사)-- 漢陽大學校 産業大學院 : 電子工學專攻 , 1988
Call Number
569.8 김817ㅇ
Items
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VPreservation
CLoan Campus
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HHolding Journal DDS
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