학술논문
전자자료 공정이용 안내
우리 대학 도서관에서 구독·제공하는 모든 전자자료(데이터베이스, 전자저널, 전자책 등)는 국내외 저작권법과 출판사와의 라이선스 계약에 따라 엄격하게 보호를 받고 있습니다.
전자자료의 비정상적 이용은 출판사로부터의 경고, 서비스 차단, 손해배상 청구 등 학교 전체에 심각한 불이익을 초래할 수 있으므로, 아래의 공정이용 지침을 반드시 준수해 주시기 바랍니다.
공정이용 지침
- 전자자료는 개인의 학습·교육·연구 목적의 비영리적 사용에 한하여 이용할 수 있습니다.
- 합리적인 수준의 다운로드 및 출력만 허용됩니다. (일반적으로 동일 PC에서 동일 출판사의 논문을 1일 30건 이하 다운로드할 것을 권장하며, 출판사별 기준에 따라 다를 수 있습니다.)
- 출판사에서 제공한 논문의 URL을 수업 관련 웹사이트에 게재할 수 있으나, 출판사 원문 파일 자체를 복제·배포해서는 안 됩니다.
- 본인의 ID/PW를 타인에게 제공하지 말고, 도용되지 않도록 철저히 관리해 주시기 바랍니다.
불공정 이용 사례
- 전자적·기계적 수단(다운로딩 프로그램, 웹 크롤러, 로봇, 매크로, RPA 등)을 이용한 대량 다운로드
- 동일 컴퓨터 또는 동일 IP에서 단시간 내 다수의 원문을 집중적으로 다운로드하거나, 전권(whole issue) 다운로드
- 저장·출력한 자료를 타인에게 배포하거나 개인 블로그·웹하드 등에 업로드
- 상업적·영리적 목적으로 자료를 전송·복제·활용
- ID/PW를 타인에게 양도하거나 타인 계정을 도용하여 이용
- EndNote, Mendeley 등 서지관리 프로그램의 Find Full Text 기능을 이용한 대량 다운로드
- 출판사 콘텐츠를 생성형 AI 시스템에서 활용하는 행위(업로드, 개발, 학습, 프로그래밍, 개선 또는 강화 등)
위반 시 제재
- 출판사에 의한 해당 IP 또는 기관 전체 접속 차단
- 출판사 배상 요구 시 위반자 개인이 배상 책임 부담
'학술논문'
에서 검색결과 119건 | 목록
1~20
Academic Journal
ACS Applied Materials & Interfaces. 17:47719-47735
Academic Journal
Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology. 24
Academic Journal
Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology. January, 2025, Vol. 24 Issue 1, p011007, 22 p.
Academic Journal
Photomask Japan 2025: XXXI Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology. :34
Academic Journal
Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology. October, 2023, Vol. 22 Issue 4, p043202, 16 p.
Academic Journal
Bojja Aditya Reddy; Balakumar Baskaran; Mohamed Saib; Joern-Holger Franke; Christophe Beral; Murat Pak; Sandip Halder; Mircea Dusa
Metrology, Inspection, and Process Control XXXIX. :65
Academic Journal
Mihir Gupta; Sara Paolillo; Bhavishya Chowrira Poovanna; Joern-Holger Franke; Stefan Decoster; Achintya Kundu; Nadia Vandenbroeck; Hyo Seon Suh; Danilo De Simone
Advances in Patterning Materials and Processes XLII. :3
Academic Journal
Optical and EUV Nanolithography XXXVIII. :39
Academic Journal
Shubhankar Das; Victor M. Blanco Carballo; Van Tuong Pham; Shruti Jambaldinni; Anuja De Silva; Joern-Holger Franke; Marcus Newman; Ali Haider; Matt Gallagher; Jeonghoon Lee; Kaushik Sah; Zhijin Chen; Bobo Cheng; Chenwei Gong; Vidya Ramanathan; Andrew J. Cross; Werner Gillijns; Hyo Seon Suh; Philippe Foubert; John Petersen; Pieter Vanelderen; Geert Vandenberghe; Kurt Ronse; Sandip Halder; Philippe Leray
Optical and EUV Nanolithography XXXVIII. :55
Academic Journal
Syamashree Roy; Arame Thiam; Yannick Feurprier; Joern-Holger Franke; Kaushik Sah; Zhijin Chen; Bobo Cheng; Chenwei Gong; Balakumar Baskaran; Joost Bekaert; Kathleen Nafus; Nobuyuki Fukui; Atsushi Tsuboi; Ardavan Niroomand; Werner Gillijns; Hemant Vats; Yasser Sherazi; Victor M. B. Carballo
Optical and EUV Nanolithography XXXVIII. :51
Academic Journal
Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology. April, 2023, Vol. 22 Issue 2, p024401, 11 p.
Academic Journal
Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology. July, 2022, Vol. 21 Issue 3, p030501, 7 p.
Academic Journal
Franke, Joern-Holger; Frommhold, Andreas; Dauendorffer, Arnaud; Nafus, Kathleen; Rispens, Gijsbert; Maslow, Mark
Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology. April, 2022, Vol. 21 Issue 2, p023201, 13 p.
Academic Journal
Victor M. Blanco Carballo; Syamashree Roy; Bhavishya Chowrira; Van Tuong Pham; Johan Wouters; Shubhankar Das; Stefan Decoster; Philippe Leray; Ru-Gun Liu; Kurt Ronse; Geert Vandenberghe; Ardavan Niroomand; Philippe Foubert; Vito Daniele Rutigliani; Hyo Seon Suh; Mihir Gupta; Danilo De Simone; Mircea Dusa; Christophe Beral; Vicky Philipsen; Vincent Wiaux; Joern Holger Franke; Joost Bekaert; Balakumar Baskaran; Werner Gillijns; Ryoung han Kim; Yasser Sherazi; Hemant Vats; Miroslav Cupak; Carol Chang; Yun-Jing Lin; Jeonghoon Lee; Soobin Hwang; Kiho Yang; Kenichi Miyaguchi
Photomask Technology 2024. :119
Academic Journal
Mihir Gupta; Lander Verstraete; Joern-Holger Franke; Achintya Kundu; Roberto Fallica; Kurt Ronse; Emily Gallagher; Danilo De Simone; Vicky Philipsen; Hyo Seon Suh
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2024. :39
Academic Journal
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2024. :10
Academic Journal
Joost Bekaert; Balakumar Baskaran; Lieve Van Look; Joern-Holger Franke; Vicky Philipsen; Ardavan Niroomand; Eric Hendrickx; Hideaki Komami; Tatsuro Okawa; Soichi Shida; Shinichi Kojima; Toshimichi Iwai
39th European Mask and Lithography Conference (EMLC 2024). :40
Academic Journal
검색 결과 제한하기
제한된 항목
[검색어] Franke, Joern-Holger
발행연도 제한
-
학술DB(Database Provider)
저널명(출판물, Title)
출판사(Publisher)
자료유형(Source Type)
주제어
언어