학술논문 – 부산대학교 도서관

학술논문

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Scaling of ion implanted Si : P single electron devices

Document Type

Journal

Author

Escott, C. C.; Hudson, F. E.; Chan, V. C.; Petersson, K. D.; Clark, R. G.; Dzurak, A. S.

Source

NANOTECHNOLOGY; JUN 13 2007, 18 23, p235401 5p.

Subject

Language

English

ISSN

09574484

Online Access

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