부산대학교 도서관

배 경 : 신규 염색장비 Sysmex-1000이 도입되면서 기존 장비에 비해 염색 후 이물질이 전 슬라이드에 분포하거나 부분적으로 집중 관찰되어 세포 감별에 불편을 초래하였다. 원인분석과 점검과정을 통해 이물질 발생이 개선되어 소개하고자 한다. 방 법 : 염색 이물질 발생은 도말 슬라이드 제작부터 염색 및 세정과정, 건조 전 염색 과정 중 발생 가능한 다음의 요인을 추정 및 점검하였다. 1) 염색 시약 점검 : 타사 및 타병원 시약 사용, 2) Slide 점검: 타사 슬라이드 사용(Muto와 Thermo) 및 Sysmex 슬라이드의 Lot No. 변경과 재세척한 슬라이드, 3) Buffer : 새로 제조 및 상품화된 tablet(pH6.8, MERCK, Gemany) 사용 제조 4) Hydraulic malfunction : chamber drain 상태 및 수압 상태 확인, 5) Smear fan 점검, 6) Diaphragm pump : drain 상태를 제조사의 권장 지침에 따라 점검하였다. 이물질 발생의 여부의 평가는 각 단계마다 점검 후 제작된 도말 슬라이드를 고배율(x1000)에서 시야 당 5 개 이상의 이물질이 관찰된 경우를 '발생', 5 개 이하는 '미발생'으로 평가하였다. 결 과 : 염색 시약 점검과 슬라이드 품질 점검에서는 이물질 발생이 개선되지 않았다. Buffer와 smear fan의 점검에서도 이물질 발생의 요인을 발견하지 못했다. 장비 점검은 Wright 염색액 원액 chamber에서는 이물질이 관찰되지 않으나 사용한 mixing chamber 내의 염색액에서는 이물질 확인되어 SP-1000의 염색 line에 부착된 찌꺼기가 떨어지는 시점이 되면 다량의 찌꺼기가 슬라이드에 부착되어 세척하는 과정에서도 모두 제거되지 않는 것으로 확인되었다. Mixing chamber air bubble mixing position 조정과 stain pipette up/down 위치 조정 및 rinse water chamber 공급 압력 조정 후 염색한 슬라이드 검경시 이물질이 고배율(x1000)에서 5 개 이하로 감소되었다. 고 찰 : 염색 도말 슬라이드에 이물질 관찰시 염색 전 과정을 점검하고 장비의 조건에 맞는 세정압력을 조절해야 되며 자동 염색 장비를 사용하는 기관에서 본원과 유사한 사례가 발생하는 경우 도움이 될 것으로 사료된다.