학술논문

ミストCVD法によるIGZO薄膜の作製とその特性
Document Type
Journal Article
Source
JSAP Annual Meetings Extended Abstracts. 2013, :3707
Subject
29p-G19-7
ミスト化学気相成長法
合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
薄膜
酸化インジウムガリウム亜鉛
Language
Japanese
ISSN
2436-7613