학술논문

Small-grain titanium nitride film with high work-function by plasma treatment / プラズマ後処理によって高い仕事関数を有する微結晶窒化チタン膜
Document Type
Journal Article
Source
JSAP Annual Meetings Extended Abstracts. 2015, :2875
Subject
14a-A29-3
Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術
plasma
wiring
work function
プラズマ
仕事関数
半導体
配線
配線/プロセス/材料/バリア導電膜
Language
Japanese
ISSN
2436-7613