학술논문

Electron Accumulation at 5d orbitals of WO3 ultra-thin film on n-type Si substrate / n型シリコン基板上の酸化タングステン極薄膜の5d軌道への電子蓄積
Document Type
Journal Article
Source
JSAP Annual Meetings Extended Abstracts. 2018, :1419
Subject
18p-223-5
Soft chemical
Tungsten Oxide
n-n heterojunction
n-nヘテロ接合
ソフトケミカル
界面、ヘテロ構造
薄膜・表面
酸化タングステン
酸化物エレクトロニクス
Language
Japanese
ISSN
2436-7613