학술논문
DCシンクロパルスプラズマを用いた最先端絶縁膜エッチングプロセスにおけるフルオロカーボンラジカルの挙動 / Fluorocarbon radical behavior of synchronized dc-imposed pulsed plasmas for advanced dielectric etching processes
Document Type
Journal Article
Author
Source
JSAP Annual Meetings Extended Abstracts. 2017, :1755
Subject
Language
Japanese
ISSN
2436-7613