학술논문

Study of etching mechanism of transition metal using neutral beam enhanced complex reaction based on tight-binding quantum chemical molecular dynamics / 中性粒子ビーム励起錯体反応による遷移金属エッチングメカニズムのTight-binding量子分子動力学法を用いた検討
Document Type
Journal Article
Source
JSAP Annual Meetings Extended Abstracts. 2016, :1714
Subject
19p-W621-11
Si・金属のエッチング
etching process
magnetoresistive RAM
transition metal complex
エッチング加工
プラズマエッチング
プラズマエレクトロニクス
磁気抵抗メモリ
遷移金属錯体
Language
Japanese
ISSN
2436-7613