학술논문 – 부산대학교 도서관

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Low damage atomic layer etching technology for gate recessed fabrication

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Article

Author

Guo, J.Q.; Wei, K.; Zhang, S.; He, X.Q.; Zhang, Y.C.; Zhang, R.Z.; Wang, J.C.; Wang, K.Y.; Huang, S.; Zheng, Y.K.; Wang, X.H.; Liu, X.Y.

Source

In Vacuum November 2023 217

Subject

Language

ISSN

0042-207X

Online Access

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