학술논문 – 부산대학교 도서관

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SrHfO 3 as gate dielectric for future CMOS technology

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Author

Rossel, C.; Sousa, M.; Marchiori, C.; Fompeyrine, J.; Webb, D.; Caimi, D.; Mereu, B.; Ispas, A.; Locquet, J.P.; Siegwart, H.; Germann, R.; Tapponnier, A.; Babich, K.

Source

In Microelectronic Engineering 2007 84(9):1869-1873

Subject

Language

ISSN

0167-9317

Online Access

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