학술논문 – 부산대학교 도서관

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The Ge condensation technique: A solution for planar SOI/GeOI co-integration for advanced CMOS technologies?

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Article

Author

Vincent, B.; Damlencourt, J.F.; Morand, Y.; Pouydebasque, A.; Le Royer, C.; Clavelier, L.; Dechoux, N.; Rivallin, P.; Nguyen, T.; Cristoloveanu, S.; Campidelli, Y.; Rouchon, D.; Mermoux, M.; Deleonibus, S.; Bensahel, D.; Billon, T.

Source

In Materials Science in Semiconductor Processing 2008 11(5):205-213

Subject

Language

ISSN

1369-8001

Online Access

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