학술논문
A sensitive EUV Schwarzschild microscope for plasma studies with sub-micrometer resolution
Document Type
Article
Author
Zastrau, U.; Nakatsutsumi, M.; Appel, K.; Göde, S.; Grote-Fortmann, C.; Rödel, C.; Förster, E.; Skruszewicz, S.; Wünsche, M.; Fletcher, L.B.; Gamboa, E.; Lee, H.J.; Glenzer, S.H.; Feigl, T.; Fiedler, T.; Pauer, H.; Perske, M.; Chen, B.; Döppner, T.; Fennel, T.; Kazak, L.; Martinez, F.; Meiwes-Broer, K.-H.; Shihab, M.; Tiggesbäumker, J.; Gericke, D.O.; Hilbert, V.; Laarmann, T.; Mabey, P.; Gregori, G.; Przystawik, A.; Toleikis, S.; Roling, S.; Zacharias, H.
Source
In: Review of Scientific Instruments . (Review of Scientific Instruments, 1 February 2018, 89(2))
Subject
Language
English
ISSN
10897623
00346748
00346748