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Dual Al2O3/Hf0.5Zr0.5O2Stack Thin Films for Improved Ferroelectricity and Reliability
Document Type
Article
Author
Li, Y.-C.; Li, X.-X.; Huang, T.; Gu, Z.-Y.; Yang, Y.-G.; Zhang, D.W.; Lu, H.-L.; Wu, M.-K.; Cui, B.-Y.; Wang, X.-P.; Ji, Z.-G.
Source
In: IEEE Electron Device Letters. (IEEE Electron Device Letters, 1 August 2022, 43(8):1235-1238)
Subject
Language
English
ISSN
15580563
07413106

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