학술논문
基于投影光刻技术的微透镜阵列加工方法 / Microlens array machining method based on projection lithography
Document Type
Academic Journal
Author
Source
光电工程 / Opto-Electronic Engineering. 50(12):87-97
Subject
Language
Chinese
ISSN
1003-501X
Abstract
本文提出了一种基于投影光刻技术的微透镜阵列制备方法,成功制备多种口径、面形及表面粗糙度均良好的微透镜阵列.该方法采用0.2倍投影物镜,降低掩模板制造成本,实现不同口径微透镜阵列制备.采用掩模移动滤波技术,在降低掩模制备复杂性的同时,提高了微透镜阵列面形精度.本文对四种不同口径的微透镜阵列进行制备实验,分别为50μm、100μm、300μm、500μm,其表面形貌加工精度达到微米级,表面粗糙度达到纳米级.实验结果表明,该方法在微透镜阵列制造中具有很大的潜力,与传统方法相比,能够实现更低的线宽和更高的表面面形精度.