학술논문

Instrumentation and control of an aerosol-assisted chemical vapor deposition system (AACVD).
Document Type
Article
Source
Dyna. Jul-Sep2019, Vol. 86 Issue 210, p52-57. 6p.
Subject
*CHEMICAL vapor deposition
*HEATING control
*TEMPERATURE control
*AIR flow
*ELECTRONIC equipment
Language
ISSN
0012-7353
Abstract
La técnica de depósito de vapor químico asistido por aerosol (AACVD) implica la atomización de una solución precursora en gotas finas que son arrastradas por un flujo de aire caliente a través de la boquilla móvil, hacia una zona calentada donde ocurren diversas reacciones químicas. En este trabajo, se presenta la implementación de los componentes mecánicos, eléctricos y electrónicos para AACVD de manera descriptiva. El equipo y los métodos experimentales implementados se describen, junto con los criterios de automatización de la boquilla, el control de temperatura de la placa de calefactora y el sistema de nebulización. El diagrama de flujo, la secuencia lógica de la programación de control de velocidad y el análisis estadístico del control de desplazamiento de la boquilla se completó y verificó, por lo que se logró un enlace adecuado entre los diversos componentes a través de Arduino con el diseño y los criterios de automatización. Finalmente, se concluyó que los criterios y el proceso de automatización utilizados permitieron con éxito la fabricación de recubrimientos uniformes y reproducibles. [ABSTRACT FROM AUTHOR]