소장자료
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초고집적 소자의 적용 Nano-pore 구조를 갖는 저유전 박막 형성과 공정기술 개발연구=Study on development and processing technology for the formation of the low dielectric thin films with nano-pore structure in ULSI devices
자료유형
국내단행본
서명/책임사항
초고집적 소자의 적용 Nano-pore 구조를 갖는 저유전 박막 형성과 공정기술 개발연구 = Study on development and processing technology for the formation of the low dielectric thin films with nano-pore structure in ULSI devices / 과학기술부 [편].
개인저자
발행사항
과천 : 과학기술부 , 2006.
형태사항
300 p. : 삽도 ; 30 cm.
총서사항
국가지정연구실 사업 = National research laboratory program
일반주기
이 보고서는 과학기술부에서 시행한 특정연구개발사업의 연구보고서임
주관연구기관명 : 제주대학교
주관연구책임자 : 최치규
주관연구기관명 : 제주대학교
주관연구책임자 : 최치규
서지주기
참고문헌: p. 296-300
요약주기
요약문, Summary 수록
청구기호
621.38152 한17ㅊH
소장정보
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