소장자료
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초고집적 소자의 적용 nano-pore 구조를 갖는 저유전 박막 형성과 공정기술 개발연구=Study on development and processing technology for the formation of the low dielectric thin film with nano-pore structure
자료유형
국내단행본
서명/책임사항
초고집적 소자의 적용 nano-pore 구조를 갖는 저유전 박막 형성과 공정기술 개발연구 = Study on development and processing technology for the formation of the low dielectric thin film with nano-pore structure / 과학기술부 [편].
개인저자
발행사항
경기도 : 과학기술부 , 2003.
형태사항
143장 : 삽도 ; 30 cm.
총서사항
국가지정연구실 사업 = National research laboratory program
일반주기
주관연구기관 : 제주대학교
주관연구책임자 : 최치규
주관연구책임자 : 최치규
서지주기
참고문헌 수록
요약주기
요약문, Summary 수록
청구기호
621.38152 한17ㅊH
소장정보
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