소장자료
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O₂/FTES-Helicon plasma CVD 방법에 의한 Fluorocarbonated-SiOF 박막형성과 그 특성/= Formation and characteristics of the fluorocarbonated SiOF film by O₂/FTES-Helicon plasma CVD Method
자료유형
학위논문
서명/책임사항
O₂/FTES-Helicon plasma CVD 방법에 의한 Fluorocarbonated-SiOF 박막형성과 그 특성/ = Formation and characteristics of the fluorocarbonated SiOF film by O₂/FTES-Helicon plasma CVD Method / 吳景淑
개인저자
발행사항
제주 : 濟州大學校 , 1997.
형태사항
61장 : 삽도 ; 26cm.
학위논문주기
학위논문(석사)-- 제주대학교 대학원 : 물리학과 , 1997
키워드
청구기호
530.4175 오14ㅇ
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