소장자료
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| 040 | ▼a221016▼d221016▲ | ||
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| 090 | ▼a620.5▼b한17ㄴF▲ | ||
| 110 | ▼a한국과학기술정보연구원.▼b정보분석부▲ | ||
| 245 | 1 | 0 | ▼a나노 공정·측정 기술=▼xNanotechnology process & metrology/▼d정보분석부 [편],▲ |
| 260 | ▼a서울 :▼b한국과학기술정보연구원,▼c2002.▲ | ||
| 300 | ▼avii, 341 p.:▼b삽도;▼c23 cm.▲ | ||
| 490 | 0 | 0 | ▼a기술 동향분석;▼vBB020▲ |
| 505 | 0 | ▼a졸-겔 공정 기술/소대섭/김진홍. - 나노 메트롤로지/엄태봉/최붕기. - 전자빔을 이용한 나노 패터닝 기술/김기범/이호신. - 나노 임프린트 리소그래피/이성은/최붕기. - 초정밀가공에서의 나노계측/김재열/이일형. - 초정밀 시스템의 나노위치제어기술/김재열/이일형.▲ | |
| 700 | 1 | ▼a소대섭/▼t졸-겔 공정 기술▲ | |
| 700 | 1 | ▼a김진홍/▼t졸-겔 공정 기술▲ | |
| 700 | 1 | ▼a엄태봉/▼t나노 메트롤로지▲ | |
| 700 | 1 | ▼a김기범/▼t전자빔을 이용한 나노 패터닝 기술▲ | |
| 700 | 1 | ▼a이호신/▼t전자빔을 이용한 나노 패터닝 기술▲ | |
| 700 | 1 | ▼a이성은/▼t나노 임프린트 리소그래피▲ | |
| 700 | 1 | ▼a김재열/▼t초정밀가공에서의 나노계측▲ | |
| 700 | 1 | ▼a이일형/▼t초정밀가공에서의 나노계측▲ | |
| 700 | 1 | ▼a김재열/▼t초정밀 시스템의 나노위치제어기술▲ | |
| 700 | 1 | ▼a이일형/▼t초정밀 시스템의 나노위치제어기술▲ | |
| 700 | 1 | ▼a최붕기,▼g崔鵬起,▼d1970-▼0221122▲ | |
| 700 | 1 | ▼a최붕기,▼g崔鵬起,▼d1970-▼0221122▲ | |
| 830 | 0 | ▼a기술 동향분석(한국과학기술정보연구원)▼vBB020▲ | |
| 999 | ▼a허성경▼b허성경▲ |
나노 공정·측정 기술= Nanotechnology process & metrology
자료유형
국내단행본
서명/책임사항
나노 공정·측정 기술 = Nanotechnology process & metrology / 정보분석부 [편]
개인저자
단체저자
발행사항
서울 : 한국과학기술정보연구원 , 2002.
형태사항
vii, 341 p. : 삽도 ; 23 cm.
총서사항
내용주기
졸-겔 공정 기술/소대섭/김진홍. - 나노 메트롤로지/엄태봉/최붕기. - 전자빔을 이용한 나노 패터닝 기술/김기범/이호신. - 나노 임프린트 리소그래피/이성은/최붕기. - 초정밀가공에서의 나노계측/김재열/이일형. - 초정밀 시스템의 나노위치제어기술/김재열/이일형.
청구기호
620.5 한17ㄴF
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