소장자료
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대기압 플라즈마 Etching 기술 개발=(The) development of atmospheric pressure plasma etching technology
자료유형
국내단행본
서명/책임사항
대기압 플라즈마 Etching 기술 개발 = (The) development of atmospheric pressure plasma etching technology / 지식경제부 [편].
부출서명
21세기 프론티어기술개발사업
차세대정보디스플레이기술개발사업
차세대정보디스플레이기술개발사업
단체저자
발행사항
서울 : 지식경제부 , 2008.
형태사항
49p. : 삽도, 챠트 ; 30cm.
일반주기
중사업명: 21세기 프론티어기술개발사업
세부사업명: 차세대정보디스플레이기술개발사업
주관연구기관 : (주)에스이 플라즈마
연구책임자 : 임성실
연구원 : 김윤환 [외]
세부사업명: 차세대정보디스플레이기술개발사업
주관연구기관 : (주)에스이 플라즈마
연구책임자 : 임성실
연구원 : 김윤환 [외]
요약주기
요약문 및 Summary 수록
청구기호
621.381542 한17ㄷI
소장정보
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