소장자료
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유도결합 플라즈마(ICP)를 이용한 GaN 에칭 특성에 미치는 마스크 물질과 공정변수의 영향= The Study on the working-variable-effects and mask materials when GaN etching using inductively coupled plasma
자료유형
학위논문
서명/책임사항
유도결합 플라즈마(ICP)를 이용한 GaN 에칭 특성에 미치는 마스크 물질과 공정변수의 영향 = The Study on the working-variable-effects and mask materials when GaN etching using inductively coupled plasma / 金星大
개인저자
발행사항
광주 : 全南大學校 , 1999.
형태사항
53장 : 삽도 ; 26cm.
학위논문주기
학위논문(석사)-- 전남대학교 대학원 : 금속공학과 , 1999
청구기호
669 김53ㅇ
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